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滾鍍銅鎳工件鍍層局部起泡的原因及處理方法

發布時間:2018/12/01 16:33:09 瀏覽量:4371 次
       問題:滾鍍銅鎳工件鍍層局部起泡,但工件彎折至斷裂卻不起皮
       可能原因:游離NaCN過低
       原因分析:該工廠是常溫滾鍍氰化鍍銅,外觀銅鍍層正常,經滾鍍鎳后,外觀鎳層也正常,經100℃左右溫度烘烤后,卻出現上述現象。
       若把正常鍍鎳上鍍好銅的工件放到產生“故障”的鎳槽內電鍍,用同一溫度烘烤,試驗結果沒有起泡,表明鍍鎳液是正常的。那么故障可能產生于銅槽內,為了進一步驗證故障是否產生于銅槽,將經過嚴格前處理的工件放在該“故障”銅槽內電鍍后,再用同一溫度去烘烤,試驗結果,鍍層起泡。由此可確認,故障發生在銅槽。
       工件彎曲至斷裂,鍍層沒有起皮,說明前處理是正常的。剝開起泡鍍層,發現基體潔凈,這進一步說明電鍍前處理沒有問題。
       氰化鍍層一般結合力很好,也無脆性。鍍層發生局部起泡的原因,主要是游離氰化物含量不足,或者鍍液內雜質過多。經過化驗分析,氰化亞銅含量為14g/L,而游離含量僅為4g/L。從分析結果來看,游離氰化鈉含量低,工作表面活化作用不強,易產生鍍層起泡。
       處理方法:用3~5g/L活性炭吸附處理鍍液后,再分析調整鍍液成分至規范,從小電流電解4h后,試鍍。
       在此必須指正,該鍍液的氰化亞銅含量也偏低,常溫下滾鍍氰化亞銅的含量應在25g/L以上,若同時調整氰化亞銅的含量,則游離氰化鈉的含量應在15g/L左右。


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